作者:周斌,黄文俊,何野,魏同立 单位:南京电子器件研究所(中电科技集团公司第55所) 出版:《固体电子学研究与进展》1988年第04期 页数:3页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFGTDZ1988040130 DOC编号:DOCGTDZ1988040139 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 一、引言 多晶硅作为一种压阻材料,可以通过化学汽相淀积工艺淀积在陶瓷,玻璃,SiO_2,Si_3N4等绝缘材料上,从而制造出一种SOI结构的压力传感器,选种特性为高温压力传感器和更为灵敏的触敏传感器提供可靠的工艺基础。 多晶硅压力传感器避免了扩散型压力传感器的pn结漏电问题,展宽了器件的工作温度范围,高温可达200℃。同时多晶硅电阻的温度系数随掺杂浓度可调,在一定掺杂水平可制造

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