作者：李乃平,刘三清,应建华 单位：华中科技大学 出版：《华中科技大学学报(自然科学版)》1989年第03期 页数：7页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFHZLG1989030110 DOC编号：DOCHZLG1989030119 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 本文从理论上分析了硅剪切压阻系数的择优取向，以及在矩形、方形和圆形弹性膜片上欲获得较大剪应力，电阻条的布局原则。利用本文提供的方法，对某些膜片上的四端应变电阻所进行的布局分析与Kanda用有限差分法计算出来的布局结果基本一致。文中还提出了膜片上一些新的布局，供设计者选用。

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