作者：邱晓露 单位：江西理工大学;江西省有色金属学会 出版：《有色金属科学与工程》1992年第04期 页数：2页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJXYS1992040150 DOC编号：DOCJXYS1992040159 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 本文根据赣州在色冶炼厂光谱仪摄谱条件的需要，针对WSP—1型平面光栅光谱仪光源，即天津WPF系列电弧发生器及控制部分，进行局部改进，使光源自动控制功能得到加强。进行光谱分析，须有与摄谱仪配合的光源，WSP—1型平面光栅摄谱仪是目前国内使用较多的一种，它的配合光源采用WPF系列电弧发生器(以下简称发生器)。发生器电流调节装置对一般分析条件均可满足，具有适应性大的特点。但对于要求不断电弧实现电流较大的跳变，以及电流变化与摄谱仪程序的同步控铷方面，原控制系统不作改进，则不能实现。

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