作者：李工 单位：机械工业信息研究院 出版：《电气应用》1992年第03期 页数：1页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFDGJZ1992030240 DOC编号：DOCDGJZ1992030249 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 非晶硅薄膜色敏元件是采用等离子CVD工艺制造的一种高性能的色敏元件，以该元件研制的色度传感器灵敏度高，重复性好，下面介绍该元件的结构、制造、工作原理、特点、功能和用途。本色敏元件采用PIN结构，P层采用掺杂碳的工艺作成碳化非晶硅，即为TCO/P-a-SiC∶H/I-a-Si∶H/N-a-Si∶H/Al结构。PIN各层厚度分别为10～12nm、40～50nm、400～500nm，透明导电膜(TCO)采用SnO_2膜，背面蒸AI为引线电极，元件结构示于图1。

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