作者：李光云,陈佩娴,任进勇,黄建兴,杨年光,林大流 单位：华南师范大学 出版：《华南师范大学学报(自然科学版)》1993年第02期 页数：6页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFHNSF1993020040 DOC编号：DOCHNSF1993020049 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 本文分析讨论研制钢膜电阻温度传感器的几个关键技术和工艺，并说明光刻版的设计要与实验室的工艺条件相适应；蒸发源的纯度、镀膜室的真空度和基片的温度对镀膜的质量有重要影响；镀膜厚度对器件互换性有重大影响，光刻时要防止到蚀过量和刻蚀不足等.文中还公开了作者在这些方面的做法和体会。

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