《半导体硅压力传感器》PDF+DOC
作者:张维连
单位:北京京仪仪器仪表研究总院有限公司
出版:《仪器仪表与分析监测》1990年第02期
页数:3页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFYQYB1990020160
DOC编号:DOCYQYB1990020169
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,宋尔纯
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一、前言自1954年Smith等人研究了半导体Ge和Si的压阻效应以来,压阻效应就在压敏元件中得到了实际应用。由于半导体压力传感器灵敏度高、体积小,特别是80年代后硅集成电路工艺技术的发展,使以硅为衬底材料的硅扩散型压力传感器得到了惊人的发展。硅压力传感器是用途最广的传感器之一。目前大多都是采用半导体扩散技术制造应变计(应变电阻),称为扩散型硅压力传感器。由硅单晶衬底制成的膜片作为感压膜,它与应变电阻为一体结构,因此蠕变和滞后现象都很小,精度高。硅压力传感器可以与硅集或电路制造在同一衬底上组成集成型硅
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