《材料表面和界面化学状态的俄歇化学效应研究》PDF+DOC
作者:朱永法,曹立礼,姚文清
单位:中国航发北京航空材料研究院
出版:《材料工程》1995年第01期
页数:4页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFCLGC501.0050
DOC编号:DOCCLGC501.0059
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《简易可燃气体浓度测试仪设计》PDF+DOC2007年第03期 潘小青,黎定国,刘红兵,刘庆成
本文运用俄歇化学效应研究了三种纳米薄膜材料的表面,膜层及界面元素的化学状态。研究结果表明用作可燃气体传感器的氧化锡气敏薄膜在离子注Sb层中以SbSno_x物种存在,在无Sb层中则以Snox(x<1)形式存在。高能离子注入的金属Sb也以SbSnOx物种存在。具有太阳能选择性吸收功能的氮化铝薄膜则以AlN_xO_y物相存在。而APCVD法制备的氮化硅薄膜热氧化不稳定的本质则是由于成膜过程中在膜层中包埋了活性较强的自由硅,该自由Si容易和热处理气氛中的残余氧反应,从而促进了Si_3N_4簿膜层的氧化。
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