作者：李海燕 单位：四川固体电路研究所 出版：《微电子学》1995年第04期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFMINI504.0130 DOC编号：DOCMINI504.0139 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 微电子制造科学与技术（ＭＭＳＴ）规划中大多数刻蚀工艺都是在德克萨斯仪器公司设计并制造的先进的真空工艺设备中实现的。反应离子刻蚀设备和微波刻蚀技术结合现场传感器，并且与一个工厂联网的计算机集成制造（ＣＩＭ）系统相连接，传感器和计算机集成制造（ＣＩＭ）系统通过提供实时控制能力有助于实现工艺要求，还使得某些工艺的逐批控制和其他工艺的标准统计工艺控制成为可能。

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