《KOH溶液无掩膜腐蚀加工硅对称梁技术研究》PDF+DOC
作者:李昕欣,鲍敏杭,沈绍群
单位:中国科学院半导体研究所;中国电子学会
出版:《Journal of Semiconductors》1996年第06期
页数:6页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFBDTX606.0120
DOC编号:DOCBDTX606.0129
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本文介绍了利用KOH腐蚀液对硅台阶、台面等三维结构进行无掩膜腐蚀的新技术.应用该技术可以制作出仅用常规各向异性腐蚀所无法形成的微机械结构,从而使腐蚀工艺的灵活性大为增加.通过分析与计算,给出了无掩膜腐蚀过程中三维结构的变化规律,并通过大量实验证实了这些规律.利用该工艺已成功地制作了一种微机械硅电容加速度传感器用的对称梁-质量块结构.这种结构的特点是梁的中平面与质量块质心位于同一水平面上,从而能消除相关的横向寄生灵敏度效应.
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