《P~+πN~+器件压磁电效应的研究》PDF+DOC
作者:温殿忠,邱成军,庄玉光
单位:中国微米纳米技术学会;东南大学
出版:《传感技术学报》1996年第02期
页数:6页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFCGJS1996020020
DOC编号:DOCCGJS1996020029
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用载流子连续方程研究了一个侧面设置高复合区的双注入P~+πN~+器件的压磁电效应,给出了伏安特性与压力和磁场强度的函数关系.结果表明,当四个P~+πN~+器件在“基区”两两垂直组成惠斯登电桥,制造在C型硅杯的硅膜片上,不但具有较高的压力灵敏度和磁灵敏度,而且可以用来测量磁场的旋转角度.据此,提出了一种新的具有良好工作稳定性及较高灵敏度的压/磁敏感器件。
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