作者：葛劢冲 单位：中国电子科技集团第四十五研究所 出版：《电子工业专用设备》1997年第04期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFDGZS704.0010 DOC编号：DOCDGZS704.0019 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 综述了国外近十多年来双面对准曝光机及其对准技术的发展，介绍了双面曝光机采用的红外对准技术和ＫａｒｌＳｕｓ、ＪＢＡ、ＯＡＩ、ＵＳＨＩＯＩｎｃ、Ｕｎｉｏｎ、ＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃＶｉｓｉｏｎｓＣｏ等公司研制的双面曝光机性能及其用途；并预测了今后电力电子器件、微机械制造、传感器件、调节器等微小功能器件的广阔市场，为双面曝光技术的发展提供了良好的发展机会和潜在的应用市场。

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