作者:李晓峰 单位:四川固体电路研究所 出版:《微电子学》1997年第02期 页数:5页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFMINI702.0060 DOC编号:DOCMINI702.0069 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 质量流量计(MFC)广泛用于微电子工艺气体的流量控制。硅片制造工艺水平通常取决于对工艺过程中气体流量的精确控制。目前在线使用的质量流量计对工艺过程有较大影响,包括质量流量计的设计缺陷和外围条件的影响。现代工艺水平对质量流量计提出了更高要求。根据质量流量计的设计机理和外围条件,分析了MFC对相关气体工艺的影响、质量流量计带来的问题及工艺系统的保护

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