《焦平面列阵的智能处理:用于(Hg,Cd)Te液相外延的传感器及控制技术(下)》PDF+DOC
作者:C.A.Castro,顾聚兴
单位:中国科学院上海技术物理研究所
出版:《红外》1996年第06期
页数:7页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFHWAI1996060070
DOC编号:DOCHWAI1996060079
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6.引言得克萨斯仪器公司的标准液相外延流程包括把衬底插入熔体之前和之后的加热和冷却步骤。此外.流程的不同部分使用的冷却速率也不同。对于液相外延流程的更为详细的介绍发表存别的文章中,但有一点是显而易见的,即经过改进的温度控制应能产生更好的重复率,次与次之间的薄膜特性的变化应更小。
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