作者:戴国瑞,何秀丽,王宗昌,南金 单位:中国科学院半导体研究所;中国电子学会 出版:《Journal of Semiconductors》1998年第10期 页数:7页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFBDTX810.0040 DOC编号:DOCBDTX810.0049 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 本文报道了以Fe(CO)5和SnCl4为源,采用PECVD技术淀积Fe2O3-SnO2双层薄膜,将该薄膜淀积在陶瓷管上,对氨气的敏感特性进行了测量,并讨论了敏感机理.

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