《Fe_2O_3-SnO_2双层薄膜对氨气敏感特性及其机理研究》PDF+DOC
作者:戴国瑞,何秀丽,王宗昌,南金
单位:中国科学院半导体研究所;中国电子学会
出版:《Journal of Semiconductors》1998年第10期
页数:7页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFBDTX810.0040
DOC编号:DOCBDTX810.0049
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本文报道了以Fe(CO)5和SnCl4为源,采用PECVD技术淀积Fe2O3-SnO2双层薄膜,将该薄膜淀积在陶瓷管上,对氨气的敏感特性进行了测量,并讨论了敏感机理.
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