作者：史兴宽 单位：北京航空精密机械研究所 出版：《航空精密制造技术》1998年第04期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFHJZJ804.0010 DOC编号：DOCHJZJ804.0019 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 在研磨盘的不同位置打深盲孔，近于贯穿，仅留下薄薄一圆形平膜片，作为抛光法向压力的敏感元件。此圆平膜片半径，厚度由位移敏感元件灵敏度及抛光所容许的外扰（对实际工作状态影响足够小）决定。在此孔中安置光纤位移传感器测量圆平膜片的变形位移，就可解算出抛光时研磨盘的局部压力。信号调制后通过多路遥测装置或电刷滑环等集流器将信号引出。

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